利技术。>
按照双方签订的专利技术转让协定,只有适合8英寸和500nm制程工艺、8英寸和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统专利技术使用权,没有专利技术转让权。>
在ri准分子激光器研发成功之前,光刻机工作台研究所继续研发适合8英寸和500nm制程工艺、8英寸和350nm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统,与研发成功的双工作台系统进行对比,取长补短,为研发适应浸没式光刻系统的磁悬浮式双工作台系统储备技术。>
根据九二年修订的专利法,国内的发明专利保护期限变成了20年,实用新型专利权和外观设计专利权的期限为10年,均自申请之日起计算。>
只要重新申请的新发明专利比前一个发明专利更先进,发明专利的保护期限可以一直延长下去,形成事实上的技术垄断,就像indos系统!>
“艾德里安总经理,申请明天的股票停牌,邀请ematech专家组对3500进行技术认证,拿到认证鉴定后,申请公司发明专利,邀请、三星和台积电等半导体制造企业参观3500光刻机样机。”>
从余建国的口里知道,今天上午的股票小幅下跌,特大利好消息没有泄密!>
“好的,董事长!”>
“艾德里安总经理,我们新研制3500光刻机的生产成本是多少万美元?出厂价打算定多少?”>
一台ikon3500光刻机,市场售价如今是3700万美元。>
“孙总,据初步核算,成本要1800万美元,市场售价定在4000万美元。”>
“艾德里安总经理,一旦消息传出去,我预测ikon3500光刻机肯定会大幅降价,我们的市场售价就卖3500万美元,薄利多销,让利于客户。”>
如今,ikon光刻机设备公司正在研制8英寸晶圆和250nm制程工艺的光刻机,一旦研制成功就会挤压3500的市场份额。>
“好的,孙董事长!”>
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